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紀念性一刻!ASML 最新 High-NA EUV,成功印首條 10 奈米密集線
科技新報 TechNews
· 6 天前
ASML 宣布首款採用 0.55 數值孔徑(High-NA)EUV 曝光設備已列印出第一個圖案。根據最新貼文,ASML 的 ...
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